La tecnología Hyper-NA de ASML llegará en el 2030 para reducir aún más los nanómetros de los chips

A principios de año, Intel presumía de haber recibido las primeras máquinas de litografía de ASML dotadas de la tecnología High-NA. Estas máquinas, denominadas así por utilizar sistemas de alta apertura (Alta apertura Numérica), sirven para la creación de chips con procesos más avanzados, pasando de 0,33 NA de apertura de las maquinarias más avanzadas hasta la fecha, a 0,55 NA de apertura.

Aunque todavía no se utilizan las máquinas High-NA para la fabricación de productos finales (se espera que lleguen con el proceso Intel 18A en partes concretas de los chips), ASML ya ha desvelado sus planes para la siguiente maquinaria denominada Hyper-NA EUV  (Litografía de Ultravioleta Extrema) con una apertura numérica capaz de subir hasta los 0,75 NA.

Esta maquinaria permitirá la creación de transistores aún más pequeños para aumentar la densidad de los chips cuando la maquinaria High-NA empiece a encontrarse con limitaciones para bajar a menos nanómetros. Se espera que esta maquinaria empiece a utilizarse a principios de la próxima década de los años 2030.

Por el momento, Intel es la única que utiliza maquinaria High-NA, pero es de esperar que otras compañías como Samsung den también el salto. Por su parte, TSMC parece estar cómoda con los actuales 0,33 y utilizan procesos de "doble patrón" para conseguir lo mismo que High-NA. No obstante, en algún momento encontrarán el límite de esta tecnología y podrían dar el salto a High-NA o directamente pasar a Hyper-NA.

ASML sigue siendo el único fabricante capaz de desarrollar este tipo de maquinaria EUV para procesos avanzados.

Fin del Artículo. ¡Cuéntanos algo en los Comentarios!