ASML es desde hace bastantes años la única empresa que puede fabricar las máquinas que permiten crear semiconductores en los nodos de fabricación más punteros, pero parece ser que Canon quiere hacerse con una parte del pastel, y lo va a hacer a lo grande, pues según podemos leer en PCGamer, nos encontraríamos con que la compañía ha desarrollado lo que llaman litografía de nanoimpresión que pueden escalar hasta los 2 nanómetros.
2 nanómetros son lo suficientemente pequeños como para rivalizar con la litografía EUV, pero la parte más importante de esta noticia es la afirmación de que la tecnología de Canon tendrá un precio de "un dígito menos que las herramientas EUV de ASML". En otras palabras, la tecnología de Canon debería costar sólo una décima parte de una máquina ASML equivalente, lo cual es una noticia impresionante.
Cuando se crea un circuito con litografía de nanoimpresión, los circuitos se imprimen directamente en una oblea de silicio aplicando una resina directamente a la oblea, seguido de presionar un molde para crear patrones de superficie antes de usar luz ultravioleta para solidificar los patrones. Sin embargo, el yield y la posibilidad de defectos siguen siendo preguntas sin respuesta por ahora, de modo que habrá que ver si alguna fundición se atreve a utilizar máquinas de Canon.
Cabe decir que Canon tiene una gran reputación en el segmento óptico, especialmente en el segmento de las cámaras de foto y vídeo, pero la fabricación de semiconductores es un animal muy distinto del que no muchos conocimientos se deberían poder traspasar directamente, además de quedar en el aire la posibilidad de trasladar este método de fabricación a otros materiales distintos del silicio.
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