Canon ha enviado la más avanzada máquina por nanoimpresión para semiconductores al Instituto para la Electrónica de Texas

Ya habíamos hablado de un nuevo sistema para la fabricación de semiconductores por nanoimpresión, un sistema que ha diseñado Canon y que tenía disponible para principios de este mismo año. Pues la versión más avanzada de su máquina con este sistema ha sido enviada por Canon en estos días al Texas Institute for Electronics, un consorcio de este estado de USA que se dedica a la fabricación de semiconductores en suelo norteamericano. Un nuevo sistema que dice ser más económico y eficiente que el habitual por litografía.

Esta nanoimpresión diseñada por Canon trabaja presionando una máscara impresa con el patrón de los circuitos sobre la resina de una oblea, como si se tratase de un sello. Esto permite reproducir de forma más precisa los patrones con diseños más finos y delgados, permitiendo la creación de patrones con un ancho de línea de tan solo 14 nanómetros. Esto equivaldría a un nodo de 5 nanómetros, necesario para reproducir este tipo de semiconductores tan pequeños.

Una máquina que estará destinada a la producción de prototipos en investigación, ya que este consorcio trabaja en conjunto con la universidad de Texas, en Austin, y del que también forman parte gobiernos locales, estatales y empresas de semiconductores de la zona.

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