El CEO de Intel Bob Swan ha concedido una entrevista en la conferencia anual de tecnología Credit Suisse donde ha hablado con franqueza de la situación actual de Intel. El CEO sitúa la segunda mitad de 2021 como fecha para ver la litografía de 7 nanómetros de Intel ya implementada en sus procesadores.
La situación actual de Intel respecto a su nodo de fabricación de litografía bien podría describirse como algo caótica, de todos es sabido que los 10 nanómetros se le atragantaron a Intel, que se topó con ciertas dificultades a la hora de plasmar su diseño en dicho nodo de fabricación.
Tampoco ayudó demasiado el actual problema de abastecimiento en sus productos de 14nm, el cual quedó de manifiesto con una carta abierta a sus clientes más directos, o la extraña decisión de resucitar procesadores de 22 nanómetros a producción, como el caso del Pentium G3420 de arquitectura Haswell.
Bob Swan, CEO de Intel, admitió con franqueza los problemas por los que atravesaba Intel en cuanto al salto generacional previsto sobre la fabricación de CPUs de menor litografía, comentando que el hecho de sumergirse en proyectos como los módems de smartphones, unido a los problemas de diseño de las CPUs a 10nm, más la creciente demanda en 14nm, fueron factores claves por los que la transición a los 10 nanómetros no ocurrió de la manera esperada, admitiendo que Intel había confiado demasiado en su capacidad para superar el estándar de la industria y sufrió las consecuencias.
Las buenas noticias residen en que la litografía propuesta por Intel es a menudo más densa que la de sus rivales de fabricantes de semiconductores más directos, y los 7nm de Intel equivaldrían a los 5nm de, por ejemplo, TSMC. Por lo que Intel confía en volver al tren de la competitividad, en cuanto a la fabricación de litografías se refiere no demasiado tarde.
Fin del Artículo. ¡Cuéntanos algo en los Comentarios!
