NVIDIA cuLitho ofrece 40 veces más rendimiento en creación de patrones para las obleas de silicio

NVIDIA ha presentado nuevas GPUs para profesionales este GTC 2023, tanto para equipos de escritorio con un reducido tamaño y consumo, como para portátiles que permitirán a los profesionales trabajar en cualquier parte. Pero también ha anunciado una colaboración con ASML, TSMC y Synopsys para sentar las bases para la fabricación de chips de próxima generación gracias a NVIDIA cuLitho, con un salto de rendimiento de hasta 40 veces superior en litografía.

Esta nueva biblioteca NVIDIA cuLitho para litografía computacional ya la está integrando TSMC, el mayor fabricante de semiconductores del mundo, y también Synopsys, con amplia experiencia en automatización y procesos de fabricación. NVIDIA también está colaborando con ASML que tiene previsto integrar soporte para GPUs en su software de litografía computacional.

Gracias a esta nueva colaboración será posible la fabricación de chips con transistores y cables más pequeños, permitiendo acelerar la tecnología disponible en centros de datos, con un menor consumo para impulsar estos procesos de fabricación.

Gracias al soporte para GPUs, cuLitho aumentará el rendimiento en hasta 40 veces al de la litografía actual, acelerando el proceso de creación de patrones en una oblea de silicio que actualmente tiene una gran carga en las CPUs. En comparación, 500 NVIDIA DGX H100 pueden realizar el trabajo equivalente a 40.000 CPUs, ejecutando todas las partes del proceso en paralelo, con el consiguiente ahorro energético. Esto permitirá a corto plazo una producción de entre 3 y 5 veces mayor con un consumo de 9 veces menos energía. También se implementarán ventajas a largo plazo, como aumentar la densidad y potenciar la litografía mediante IA.

Con NVIDIA cuLitho será posible nuevas soluciones y técnicas que darán vida a los nuevos nodos avanzados previstos para el futuro, como la litografía EUV de alta resolución y el modelado de fotorresistencias subatómicas.

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